CVD化学气相沉积

Chemical Vapor Deposition


金刚石(Diamand),常称钻石,其性能优异,应用广泛。

人造金刚石技术包括高温高压(HTHP)法和化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition 简称CVD)法。


     CVD金刚石沉积方法包括:热丝 CVD 法(Hot Filament CVD,简称HFCVD)、

                微波等离子体 CVD 法(MWPCVD)、

                        直流等离子体喷射 CVD 法(DCPJCVD) 等。

     MWPCVD法设备复杂,成本高,尺寸受限,

但其膜层质量优异,一般为透明色,

主要应用于光学、电子、人造钻石等高端领域。        

     HFCVD法由于设备较简单、成本较低廉、可进行大规模工业化生产,

其膜层质量一般,呈黑色,主要应用其硬度及耐磨性。


          钻科技具有HFCVD和MWPCVD两种制备设备,并熟练掌握其制备技术。


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采用热丝CVD(即HFCVD)设备制备金刚石涂层产品,

其方法是采用金属丝作为热源,通入活性气体,

在真空条件下当热丝温度达到2000℃左右时,

含氢气体在高温下发生热分解,

在工件基底上先沉积生长一层微米晶金刚石,增强膜层和基底结合力,

然后继续沉积生长一层纳米晶金刚石,改善图层表面结构,降低表面粗糙度。



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