金刚石（Diamand），常称钻石，其性能优异，应用广泛。

人造金刚石技术包括高温高压（HTHP）法和化学气相沉积（Chemical Vapor Deposition 简称CVD）法。

     CVD金刚石沉积方法包括：热丝 CVD 法（Hot Filament CVD，简称HFCVD）、

                微波等离子体 CVD 法（MWPCVD）、

                        直流等离子体喷射 CVD 法（DCPJCVD） 等。

     MWPCVD法设备复杂，成本高，尺寸受限，

但其膜层质量优异，一般为透明色，

主要应用于光学、电子、人造钻石等高端领域。        

     HFCVD法由于设备较简单、成本较低廉、可进行大规模工业化生产，

其膜层质量一般，呈黑色，主要应用其硬度及耐磨性。

          久钻科技具有HFCVD和MWPCVD两种制备设备，并熟练掌握其制备技术。

采用热丝CVD（即HFCVD）设备制备金刚石涂层产品，

其方法是采用金属丝作为热源，通入活性气体，

在真空条件下当热丝温度达到2000℃左右时，

含氢气体在高温下发生热分解，

在工件基底上先沉积生长一层微米晶金刚石，增强膜层和基底结合力，

然后继续沉积生长一层纳米晶金刚石，改善图层表面结构，降低表面粗糙度。